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第1回「設立総会」

日時:平成10年1月27日
場所:弘済会館

  1. アトムテクノロジープロジェクトの現況
    丸山 瑛一(アトムテクノロジー研究体 プロジェクトリーダー)

  2. 電子・光デバイスとナノテクノロジー
    末松 安晴(高知工科大学学長)

第3回「走査型ブロープ顕微鏡の最近の研究動向—高分子/バイオ分野におけるナノプロープテクノロジー」

日時:平成10年5月22日
場所:学士会館

  1. 有機シラン単分子膜とSPM微細加工
    杉村 博之(名古屋大学大学院 工学研究科)

  2. 原子間力顕微鏡によるDNA研究の目的と現状
    岡田 孝夫(工業技術院 アトムテクノロジー研究体)

  3. 粘着剤のマクロとミクロ
    久保園 達也(日東電工(株) 信頼性評価センター)

  4. 材料強度研究とナノテクノロジー
    岸本 喜久雄(東京工業大学 工学部)

  5. 高分子・生体材料のナノメートルスケールでの力学的性質
    猪飼 篤(東京工業大学 生命理工学部)

第5回「ブロープの製作評価」

日時:平成10年10月2日
場所:弘済会館

  1. SPMのブロープ研究の総括
    森田 清三(大阪大学大学院 工学研究科)

  2. ビルドアップ探針とその応用
    富取 正彦(北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科)

  3. 走査型アトムプロープによる探針評価
    西川 治(金沢工業大学 物質応用工学科)

  4. AFM用マイクロカンチレバーの製作
    戸田 明敏(オリンパス光学工業(株))

  5. AFM共振スペクトルによる接触状態と探針形状の評価
    山中 一司(東北大学)

  6. 「パネル討論」(パネラー:講演者)
    話題提供 「化学修飾探針の展望」 猪飼 篤(京工業大学)

  7. 【会議報告】Micro-processes and Nanotechnology Conf (MNC 7月13日〜16日、Kyoungju)
    荻野 俊郎(NTT 基礎研究所)

第7回「ナノテクノロジー」

日時:平成11年1月22日
場所:弘済会館

  1. 私達の生活とナノエレクトロニクス —CDプレーヤーや携帯電話にナノテクノロジーが生きている—
    嶋田 壽一((株)日立製作所)

  2. 究極のナノテクノロジー —ナノ構造の機能と特性を測る新手法—
    青野 正和(大阪大学大学院 工学研究科)

  3. ナノテクノロジー:ブレークスルーへのチャレンジ
    相澤 益男(東京工業大学 生命理工学部)

  4. バイオ分子の形とその働き
    横山 茂之(東京大学大学院 理学系研究科)

  5. 生体物質を調べるマイクロマシン —マイクロ生化学分析システム—
    庄子 習一(早稲田大学 理工学部)

第9回「高分子と生体膜表面のナノテクノロジー」

日時:平成11年5月21日
場所:弘済会館

  1. ポリマーキャスト膜の自己組織的凝集構造
    下村 政嗣(北海道大学 電子科学研究所)

  2. フラクタル構造による超撥水/撥油
    恩田 智彦(花王(株) 加工・プロセス開発研究所)

  3. 走査フォース顕微鏡による高分子超薄膜の構造、物性、機能性評価
    高原 淳(九州大学 有機化学基礎研究センター)

  4. 生体膜の動力学・膜透過の計算機シミュレーション
    岡崎 進(東京工業大学大学院 総合理工学研究科)

  5. 組織工学をめざした生体適合性表面の設計
    赤池 敏宏(東京工業大学 生命理工学部)

第2回「走査型プローブ顕微鏡の最近の研究動向—電子デバイス・プロセスの現場からの走査型プロープ顕微鏡に望むこと—」

日時:平成10年3月12日
場所:弘済会館

  1. 半導体分野における計測技術のニーズと動向
    三井 泰裕((株)日立製作所 半導体事業部)

  2. シリコンナノデバイス評価から見たSPM技術への期待
    森本 廉、森田 清之、大仲 清司(松下電器産業(株) 中央研究所)、 

       丹羽 正昭(松下電子工業㈱ 半導体事業本部プロセス開発センター)

  1. 半導体プロセスにおけるモニタ技術の課題
    斎藤 修一(日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所)

  2. 超純水洗浄Si表面構造の評価
    臼田 宏治((株)東芝 研究開発センター材料・デバイス研究所)

  3. 汎用的「分析業務」の観点からみたSPMの利用と期待
    鈴木 峰晴(NTTアドバンステクノロジ(株) 材料開発&分析センター)

  4. パネル討論会

第4回「半導体プロセス評価へのSPMの適用と問題—形状評価、標準化」

日時:平成10年7月31日
場所:NEC 三田ハウス芝倶楽部

  1. 作業部会報告
    猪飼 篤(東京工業大学)、森田 清三(大阪大学)

  2. 序論 第2回研究会で提起された問題のまとめ
    荻野 俊郎(NTT 基礎研究所)

  3. ナノデバイス・プロセスにおける原子間力顕微鏡を用いたナノ構造計測
    永瀬 雅夫(NTT 基礎研究所)

  4. Siトレンチ側壁のAFM評価
    八幡 彰博、浦野 聡、井上 智樹、四戸 孝((株)東芝 先端半導体デバイス研究所)

  5. 走査型キャパシタンス顕微鏡による微小領域の半導体不純物分布測定
    峯尾 江利子、久保 真紀、中沢 正敏、杉本 有俊((株)日立製作所 デバイス開発センター)

  6. AFMによる光ディスク表面形状の考察
    加藤 恵三((株)日立製作所 中央研究所)

  7. SPM用校正試料とトレーサビリティー
    関 敏明(VLSIスタンダード(株))

  8. 【会議報告】非接触の原子間力顕微鏡の国際ワークショップ(7月21日?23日、大阪大学)
    森田 清三(大阪大学)

第6回「キャパシタンス顕微鏡、ケルビンフォース顕微鏡、静電気力顕微鏡 —仕事関数、接触電位差、ドーピングプロファイルをキーワードとして—」

日時:平成10年11月27日
場所:弘済会館

  1. 走査型キャパシタンス顕微鏡による半導体ドーパント分布の評価
    中桐 伸行((株)ニコン 第一技術開発部)

  2. 走査型マクスウェル応力顕微鏡による表面電気現象の解析
    横山 浩(電子技術総合研究所)

  3. 非接触走査型力顕微鏡による表面電位計測及びドーパントプロファイル計測への応用
    菊川 敦((株)日立製作所 中央研究所)

  4. FM検出静電気力顕微鏡による半導体表面の電荷の原子レベル観察
    菅原 康弘(大阪大学大学院 工学研究科)

  5. SPMを用いた超高速波形計測
    水原 晃、竹内 恒一郎((株)テラテック)

第8回「近接場光学顕微鏡」

日時:平成11年3月12日
場所:弘済会館

  1. 散乱型近接場光学顕微鏡
    河田 聡(大阪大学大学院 工学研究科)

  2. 微細加工カンチレバーを用いた近接場光学顕微鏡
    山田 啓文(京都大学大学院 工学研究科)

  3. 近接場光学顕微鏡による半導体微細・量子溝造の分光評価
    斎木 敏治(神奈川科学技術アカデミー 光極微機能プロジェクト)

  4. 光エレクトロニクスのパラダイム・シフトとしての近接場光技術
    大津 元一(東京工業大学大学院 総合理工学研究科)

  5. トンネル電子発光による個々のナノ構造の特性評価
    村下 達(NTT フォトニクス研究所)

第10回「SPMの実用技術への応用」

日時:平成11年7月7日
場所:弘済会館

  1. SPMの評価に耐えられる試料作製方法
    畠山 進一((株)三啓)

  2. 実際の分析解析業務におけるSPMの位置付けと解析例およびSPMへの期待
    叶 際平((株)日産アーク)

  3. 広視野かつ高速走査を実現させたSPMとそれによるCMP評価
    村山 健(日立建機(株))

  4. 雰囲気制御型SPMについて
    粉川 良平((株)島津製作所)

  5. 高性能光学顕微鏡とSPMの関わり—光学顕微鏡との一体化によるSPM解析のメリット—
    F. Saurenbach(カールツァイス(株)(SIS社))

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