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次世代ナノプローブ技術委員会　第2回研究会

「ナノスケールの表面電位および表面電荷の計測の最前線」

ナノスケールの表面電位計測に関する最先端の研究を紹介してもらうとともに、

今後の展望について議論する。

  • ⽇時：2024年３月１２日（火）13:00-17:30 研究会、17:45-20:00 懇親会
     

  • 場所：Shimadzu Tokyo Innovation Plaza（川崎市殿町）
     

  • オンラインアクセス：Zoom

研究会プログラム

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13:00-13:10 連絡

13:10-13:45        超高真空KPFMを用いたp-n接合中の内蔵電位分布計測と静電気力の三次元定量解析

                               石田　暢之　　物質・材料研究機構

13:45-14:20        液中オープンループ電位顕微鏡を用いた金属腐食機構のその場解析

福間　剛士　金沢大学 ナノ生命科学研究所

14:20-14:55       半導体表面内部の界面状態を測定するショックレイ・リード・ホール統計に基づく

                          高周波と低周波の交流バイアスを用いる静電気力分光法

菅原 康弘  大阪大学大学院工学研究科

14:55-15:10 休憩

15:10-15:45       光KFMによる太陽電池の光起電力時間分解計測

高橋　琢二　　東京大学生産技術研究所

15:45-16:20       時間分解EFM/KPFMによる有機トランジスタのキャリアダイナミクス評価

小林 圭　　京都大学工学研究科

16:20-16:55       時間分解SNDMによる界面欠陥準位の可視化

山末　耕平　　東北大学

16:55-17:30       バイアス電圧パルスを用いた時間分解STMと遅延時間変調pump-probe法を用いた

　　　　　　     時間分解AFM

武内　修　　筑波大学

17:45-20:00       懇親会

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